等离子体浸没离子注入和沉积技术制备TiN薄膜研究

• 作者: 冷永祥 孙鸿 徐禄祥 裘叶军 陈俊英 黄楠
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮化钛 等离子浸没离子注入和沉积 硬度 耐磨性 成分 结构
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 工业研究与应用
• 页码范围: 295-298,225
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2665字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2003.04.017

摘要

利用多功能等离子体浸没离子注入设备,采用等离子体浸没离子注入和沉积技术在Ti合金表面制备具有优异力学性能的TiN薄膜.研究了真空室中氮气存在状态及氮气压力对薄膜性能的影响:当氮以中性气体存在于真空室中,薄膜的生长主要受热力学因素控制,沿着低自由能的密排面(低指数面)TiN(111)择优生长;当氮以等离子体状态存在于真空室中,薄膜沿着高指数面TiN(220)择优生长,具有高硬度、耐磨性好的优点,并且随着N分压的提高,薄膜耐磨性提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄楠	西南交通大学材料学院生物材料及表面工程研究所	160	1147	19.0	27.0
2	冷永祥	西南交通大学材料学院生物材料及表面工程研究所	54	492	13.0	20.0
3	陈俊英	西南交通大学材料学院生物材料及表面工程研究所	37	249	10.0	15.0
4	孙鸿	西南交通大学材料学院生物材料及表面工程研究所	46	334	10.0	15.0
5	徐禄祥	西南交通大学材料学院生物材料及表面工程研究所	2	140	2.0	2.0
6	裘叶军	西南交通大学材料学院生物材料及表面工程研究所	1	24	1.0	1.0