脉冲源所镀DLC膜成份的分析

• 作者: 弥谦 蔡长龙
• 来源期刊: 应用光学
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲电弧 DLC膜 薄膜成份
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜技术
• 页码范围: 44-46
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4-34
• 字数: 1873字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-2082.2003.05.015

摘要

类金刚石薄膜(DLC膜)的成份(主要指sp3键和sp2键)是影响薄膜性能如薄膜的机械特性和电阻特性等的重要因素.因此,研究DLC膜的成份是非常必要的.本文介绍用X射线光电子能谱仪(XPS)测量薄膜成份的方法.通过采用脉冲真空电弧离子源研究在各种工艺条件下镀制的DLC膜,发现了影响DLC膜成份的主要因素.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	弥谦	西安工业学院光电工程学院	60	260	9.0	14.0
2	蔡长龙	西安工业学院光电工程学院	82	319	8.0	14.0