Zn0.85Co0.15O薄膜的制备及其结构分析

• 作者: 刘艳美 周圣明 李爱侠 苏凤莲 赵宗彦
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束反应蒸镀 Zn0.85Co0.15O薄膜 衬底温度 微结构
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 353-355
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2260字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2003.05.014

摘要

用电子束蒸镀方法在(100)单晶Si衬底上,生长Zn0.85Co0.15O薄膜,并研究了衬底温度对薄膜质量的影响,结果表明当衬底温度为400 ℃时,外延膜取向性最好,且其(002)衍射峰半高宽最窄(为0.4834°).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘艳美	安徽大学物理系	37	186	7.0	11.0
2	周圣明	安徽大学物理系	10	39	5.0	5.0
3	赵宗彦	安徽大学物理系	24	138	6.0	10.0
4	李爱侠	安徽大学物理系	37	194	9.0	11.0
5	苏凤莲	安徽大学物理系	4	24	3.0	4.0