DUV光致抗蚀剂的研究进展(Ⅰ)--主体成膜高分子部分

• 作者: 余尚先 张改莲 杨凌露
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 工学
• 关键词: DUV光致抗蚀剂 矩阵树脂 产酸源 阻溶剂 化学增幅
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 16-19
• 页数: 4页
• 分类号: TQ314.24
• 字数: 4514字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2003.01.005

摘要

综述了近十年来DUV抗蚀剂体系的进展,特别对DUV区化学增幅抗蚀剂的矩阵树脂、产酸源、阻溶剂作了详细的阐述.并指出,通过改进感光高分子的结构与组成,可以获得性质优良的抗蚀剂.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张改莲	北京师范大学化学系	17	188	8.0	13.0
2	余尚先	北京师范大学化学系	39	145	7.0	9.0
3	杨凌露	北京师范大学化学系	8	77	5.0	8.0