化学增幅抗蚀剂用光产酸源

• 作者: 余尚先 张改莲 杨凌露
• 来源期刊: 化学通报
• 学科: 化学
• 关键词: 化学增幅 抗蚀剂 光产酸源 酸增殖剂
• 年，卷（期）: 2003,（7）
• 所属期刊栏目: 知识介绍
• 页码范围: 474-478
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 3563字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0441-3776.2003.07.010

摘要

对化学增幅抗蚀剂体系的组成及化学增幅作用做了阐述.介绍了化学增幅作用中的关键组分--光产酸源和酸增殖剂的发展概况,并对重氮盐、(金翁)盐、有机多卤化物、磺酸酯类化合物等产酸源的产酸机理、适用光源分别进行了阐述.从目前国际发展的趋势来看, 硫(金翁)盐和磺酸酯类的光产酸源占据主要地位,有机多卤化物中的三嗪化合物还有少量应用.(口频)哪醇单磺酸酯类化合物作为酸增殖剂使用较为普遍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张改莲	北京师范大学化学系	17	188	8.0	13.0
2	余尚先	北京师范大学化学系	39	145	7.0	9.0
3	杨凌露	北京师范大学化学系	8	77	5.0	8.0