电位阶跃法沉积羟基磷灰石的研究

• 作者: 吴霞琴 姜远达 王芳 章宗穰
• 来源期刊: 化学研究与应用
• 学科: 化学
• 关键词: 电沉积 羟基磷灰石 电位阶跃 扫描电镜 X衍射 电化学腐蚀
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 655-657
• 页数: 3页
• 分类号: O646.54
• 字数: 2283字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1656.2003.05.016

摘要

采用电化学方法在钛金属基底上沉积羟基磷灰石(HA).系统考察了阶跃电位、沉积时间等实验条件对涂层质量的影响.在一定温度下经碱液处理后获得的羟基磷灰石(HA)涂层的形貌和结构分别用扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射(XRD)进行了表征;用粘结拉伸法测得涂层的界面结合强度达7.44MPa,并在模拟生物体液中考察了生物活性以及电化学腐蚀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴霞琴	上海师范大学生命和环境科学学院化学系	64	611	12.0	21.0
2	章宗穰	上海师范大学生命和环境科学学院化学系	77	518	12.0	18.0
3	王芳	上海师范大学生命和环境科学学院化学系	31	203	7.0	13.0
4	姜远达	上海师范大学生命和环境科学学院化学系	3	24	2.0	3.0