大气状态下AFM针尖诱导氧化加工Ti膜的机理分析

• 作者: 刘庆纲 匡登峰 张世林 胡小唐 郭维廉
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: AFM针尖诱导氧化 阳极氧化 Ti氧化物 偏压 扫描速度
• 年，卷（期）: 2003,（12）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1303-1306
• 页数: 4页
• 分类号: TN16
• 字数: 2220字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2003.12.015

摘要

通过AFM针尖诱导氧化加工Ti膜的实验得到了凸出的Ti膜氧化物高度与偏置电压成线性关系,并和针尖扫描速度成负对数关系,在前人的基础上深化了AFM针尖诱导氧化加工的机理和理论模型,分析得到了合适的加工条件即:偏压为8V,扫描速度为0.1μm/s.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘庆纲	天津大学精密仪器与光电子工程学院精密测试计量技术及仪器国家重点实验室	45	189	8.0	10.0
2	匡登峰	天津大学精密仪器与光电子工程学院精密测试计量技术及仪器国家重点实验室	9	20	3.0	3.0
3	胡小唐	天津大学精密仪器与光电子工程学院精密测试计量技术及仪器国家重点实验室	205	1913	21.0	33.0
4	张世林	天津大学电子信息工程学院	109	334	8.0	11.0
5	郭维廉	天津大学电子信息工程学院	145	419	10.0	12.0