热阴极DC-PCVD方法制备的金刚石厚膜的生长特性和内应力

• 作者: 姜志刚 曹庆忠 胡航 金曾孙
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 化学
• 关键词: 热阴极DC-PCVD 金刚石厚膜 生长特性 内应力
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 65-68
• 页数: 4页
• 分类号: O613.71
• 字数: 2307字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-8827.2003.01.012

摘要

采用热阴极DC-PCVD(Direct Current Plasma Chemical Vapor Deposition)方法制备出大尺寸高质量的金刚石厚膜,研究了金刚石厚膜的生长特性和内应力状态.由热阴极DC-PCVD方法制备的金刚石厚膜大多数为〈110〉取向,表面显露面主要是(100)面和(111)面,厚膜的表面被较多的孪晶所覆盖,部分(111)面退化为3个相互垂直的(110)面,孪晶使厚膜表面结晶特性复杂化,金刚石厚膜的晶粒沿生长方向呈现柱状生长.金刚石厚膜的生长速率随甲烷流量和工作气压的增加而增加,但随生长速率的提高金刚石膜的品质明显下降.金刚石厚膜的内应力以压应力为主,随着甲烷浓度的增加压应力增加,随着工作气压的增加压应力减小,到某个气压之后变为张应力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金曾孙	吉林大学超硬材料国家重点实验室	50	462	12.0	19.0
2	姜志刚	吉林大学超硬材料国家重点实验室	21	157	6.0	12.0
3	胡航	吉林大学超硬材料国家重点实验室	1	21	1.0	1.0