射频溅射法镀LD腔面光学薄膜的工艺研究

• 作者: 刘莹 崔碧峰 徐晨 杜金玉 沈光地 舒雄文 邹德恕 鲁鹏程
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 射频溅射 增透膜 高反射膜 量子效率
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 451-453
• 页数: 3页
• 分类号: TN248.4
• 字数: 2098字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2003.06.023

摘要

介绍了用普通多靶射频溅射台镀半导体激光器腔面光学膜的工艺方法,给出了实验的工艺条件、采用的光学膜的材料以及具体的工艺参数,讨论了此方法镀光学膜的结果以及优点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	舒雄文	北京工业大学北京光电子实验室	8	67	4.0	8.0
2	徐晨	北京工业大学北京光电子实验室	63	295	9.0	13.0
3	刘莹	北京工业大学北京光电子实验室	31	375	10.0	19.0
4	邹德恕	北京工业大学北京光电子实验室	58	270	10.0	12.0
5	崔碧峰	北京工业大学北京光电子实验室	51	172	7.0	10.0
6	鲁鹏程	北京工业大学北京光电子实验室	9	26	4.0	5.0
7	杜金玉	北京工业大学北京光电子实验室	8	40	4.0	6.0