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摘要:
采用直流反应磁控溅射方法在镀有ITO的玻璃衬底上制备了ZnO荧光薄膜.通过X射线衍射(XRD)、能谱分析仪对退火前后薄膜的结晶状况和成分进行了分析,利用荧光探测单色仪对薄膜的光致发光(PL)特性进行了研究.退火前后的发光峰分别位于光谱绿区499.2 nm和517.8 nm处.退火处理明显提高了绿光强度,并且使发光峰产生了红移.
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文献信息
篇名 ZnO荧光薄膜的制备及特性研究
来源期刊 郑州大学学报(理学版) 学科 物理学
关键词 ZnO薄膜 XRD PL
年,卷(期) 2003,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 35-37
页数 3页 分类号 O482.3
字数 1689字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-6841.2003.03.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 姚宁 郑州大学物理工程学院 122 692 12.0 18.0
2 张兵临 郑州大学物理工程学院 95 608 12.0 18.0
3 张兰 郑州大学工程力学系 68 325 8.0 14.0
4 边超 郑州大学物理工程学院 7 135 5.0 7.0
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO薄膜
XRD
PL
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1962
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