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摘要:
用射频磁控反应溅射在石英玻璃和硅片上沉积氧化钒薄膜.利用X射线衍射,X射线光电子谱,原子力显微镜,分光光度计和电阻测量手段对沉积薄膜结构、形貌和性能进行了测试.结果表明,沉积薄膜的电阻温度系数大于1.8%/℃,方块电阻为22±5kΩ/□.
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文献信息
篇名 微测热辐射计氧化钒薄膜工艺研究
来源期刊 红外与毫米波学报 学科 工学
关键词 氧化钒 薄膜 微测热辐射计 电阻温度系数
年,卷(期) 2003,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 419-422
页数 4页 分类号 TN21
字数 3209字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1001-9014.2003.06.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 贺德衍 兰州大学物理科学技术学院 68 559 13.0 19.0
2 崔敬忠 15 208 8.0 14.0
3 许旻 兰州大学物理科学技术学院 8 81 5.0 8.0
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研究主题发展历程
节点文献
氧化钒
薄膜
微测热辐射计
电阻温度系数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外与毫米波学报
双月刊
1001-9014
31-1577/TN
大16开
上海市玉田路500号
4-335
1982
chi
出版文献量(篇)
2620
总下载数(次)
3
总被引数(次)
28003
论文1v1指导