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等离子体刻蚀过程中有害气体净化的原理和方法
等离子体刻蚀过程中有害气体净化的原理和方法
作者:
于继荣
周仲浩
杨英杰
马国欣
黄光周
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
半导体
等离子体
有害气体
环境保护
摘要:
叙述了等离子体刻蚀过程中产生的有害气体以及处理这些有害气体的原理和方法.对燃烧分解、化学中和、薄膜吸气、等离子体净化及脉冲电晕放电等作了简要的概述.指出等离子体净化和脉冲电晕放电是净化有害气体的较好方法.
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文献信息
篇名
等离子体刻蚀过程中有害气体净化的原理和方法
来源期刊
真空电子技术
学科
工学
关键词
半导体
等离子体
有害气体
环境保护
年,卷(期)
2003,(5)
所属期刊栏目
研究与设计
研究方向
页码范围
32-34
页数
3页
分类号
TN405.98+2
字数
2590字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-8935.2003.05.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
黄光周
华南理工大学电子与信息学院
26
189
9.0
13.0
2
于继荣
华南理工大学电子与信息学院
16
84
5.0
8.0
3
马国欣
华南理工大学电子与信息学院
34
223
8.0
13.0
4
杨英杰
华南理工大学电子与信息学院
6
21
2.0
4.0
5
周仲浩
华南理工大学电子与信息学院
1
2
1.0
1.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
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(0)
共引文献
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参考文献
(16)
节点文献
引证文献
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同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
1987(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1990(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1991(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1992(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1993(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1995(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1996(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1997(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1999(7)
参考文献(7)
二级参考文献(0)
2000(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2003(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2008(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2009(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
半导体
等离子体
有害气体
环境保护
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
主办单位:
北京真空电子技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-8935
CN:
11-2485/TN
开本:
大16开
出版地:
北京749信箱7分箱
邮发代号:
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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