等离子体刻蚀过程中有害气体净化的原理和方法

• 作者: 于继荣 周仲浩 杨英杰 马国欣 黄光周
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体 等离子体 有害气体 环境保护
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 32-34
• 页数: 3页
• 分类号: TN405.98+2
• 字数: 2590字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2003.05.007

摘要

叙述了等离子体刻蚀过程中产生的有害气体以及处理这些有害气体的原理和方法.对燃烧分解、化学中和、薄膜吸气、等离子体净化及脉冲电晕放电等作了简要的概述.指出等离子体净化和脉冲电晕放电是净化有害气体的较好方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄光周	华南理工大学电子与信息学院	26	189	9.0	13.0
2	于继荣	华南理工大学电子与信息学院	16	84	5.0	8.0
3	马国欣	华南理工大学电子与信息学院	34	223	8.0	13.0
4	杨英杰	华南理工大学电子与信息学院	6	21	2.0	4.0
5	周仲浩	华南理工大学电子与信息学院	1	2	1.0	1.0