CAPP系统中基于孔特征信息约束最佳工艺路线的建模与求解

• 作者: 乐光学 杨鼎强
• 来源期刊: 计算技术与自动化
• 关键词: 特征信息 约束条件 最佳工艺路线 约束函数
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 计算机应用
• 页码范围: 100-103
• 页数: 4页
• 分类号: TP391.73
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-6199.2003.01.025

摘要

通过分析分布于零件上孔的特征信息、实际制造环境和技术的约束条件,运用动态规划原理,提出了基于孔特征信息构造平面网络图的规则,建立了一个高效简洁的最佳工艺路线的求解模型和约束函数,并给出了具体的算法和效率分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	乐光学	湖南省怀化学院计算机系	4	8	2.0	2.0
2	杨鼎强	长沙电力学院计算机系	2	3	1.0	1.0