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半导体技术的研究进展
半导体技术的研究进展
作者:
孙富强
杜龙安
王景蓉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
化合物半导体
晶体融合
刻蚀工艺
混合物
摘要:
随着世界范围内对半导体产品需求的持续上扬,半导体发展已到了黄金时期.本文从半导体硅制造工艺的研究进展、化合物半导体技术的研究进展和应用等方面进行了综述.
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文献信息
篇名
半导体技术的研究进展
来源期刊
山东科学
学科
工学
关键词
化合物半导体
晶体融合
刻蚀工艺
混合物
年,卷(期)
2003,(4)
所属期刊栏目
工程技术应用
研究方向
页码范围
68-69
页数
2页
分类号
TN30
字数
1689字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-4026.2003.04.016
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
杜龙安
山东省科学院情报研究所
2
6
1.0
2.0
2
孙富强
济南科技风险投资公司项目部
2
18
1.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
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参考文献
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节点文献
引证文献
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2003(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2005(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
化合物半导体
晶体融合
刻蚀工艺
混合物
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
山东科学
主办单位:
山东省科学院
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-4026
CN:
37-1188/N
开本:
大16开
出版地:
山东省济南市科院路19号
邮发代号:
创刊时间:
1984
语种:
chi
出版文献量(篇)
2287
总下载数(次)
6
总被引数(次)
10350
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