纳米二氧化硅/聚酰亚胺耐电晕薄膜的研究

• 作者: 刘立柱 张营堂 梁冰 雷清泉
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 超声机械共混 纳米二氧化硅 聚酰亚胺薄膜 耐电晕性
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 研制与应用
• 页码范围: 7-10
• 页数: 4页
• 分类号: TM215.3|TQ323.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9239.2003.06.002

摘要

通过超声机械混合方法制备纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合耐电晕薄膜,并对其耐电晕性进行测量.用红外光谱(IR)和原子力显微镜(AFM)观察无机纳米粒子的分散情况及其电晕前后变化.结果表明:纳米二氧化硅/聚酰亚胺复合薄膜耐电晕性比普通的聚酰亚胺薄膜高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘立柱	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	100	618	11.0	17.0
2	雷清泉	哈尔滨理工大学电气与电子工程学院	83	1178	20.0	30.0
3	张营堂	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	2	43	2.0	2.0
4	梁冰	哈尔滨理工大学材料科学与工程学院	7	105	5.0	7.0