非晶软磁合金薄带纳米晶化过程中缺陷变化的正电子湮没研究

• 作者: 尤富强 殷俊林 王景成 高国华
• 来源期刊: 热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 正电子湮没 纳米晶合金 非晶合金 缺陷
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 16-20
• 页数: 5页
• 分类号: TB302.5
• 字数: 4492字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1690.2003.03.003

摘要

用正电子湮没多普勒展宽能谱测量和分析了若干急冷淬火制备的薄带,表明软磁Fe基纳米晶合金中的缺陷(自由体积)远多于其晶化前的非晶态;能够晶化成纳米晶的Fe基非晶制备态材料中的缺陷也多于类似成分但又不能晶化成纳米晶的非晶态材料中的缺陷;Fe73.0Cu1.0nb1.5Mo2.0Si13.5B9.0合金的急冷淬火制备态在热处理过程中,低温退火时缺陷减少,高于200℃的退火导致缺陷增加,纳米晶化后的进一步退火缺陷基本不增加;Fe73.0Cu1.0Bn1.5Mo2.0Si13.5 B9.0合金纳米晶化后,在所选定的测量条件下没有发现正电子湮没参数随时间、温度的变化,说明该材料缺陷结构相当稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	殷俊林		3	50	2.0	3.0
2	尤富强		2	7	2.0	2.0
3	高国华		2	7	2.0	2.0
4	王景成		2	7	2.0	2.0