离子束辅助沉积立方氮化硼的试验研究

• 作者: 唐云 张平 王晓晴 蔡志海 谭俊
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 立方氮化硼薄膜 离子束辅助沉积 X射线光电子能谱分析 红外光谱分析
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 低能加速器技术、射线技术及应用
• 页码范围: 349-352
• 页数: 4页
• 分类号: TG77.821
• 字数: 0字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2003.05.006

摘要

运用离子束辅助沉积(IBAD)法在硅片上制备了立方氮化硼(c-BN)薄膜, 研究了辅助能量、辅助束流及辅助束中氮气含量等参数对膜中c-BN含量的影响.用红外光谱(FTIR)及X射线光电子能谱(XPS)分析技术对得到的c-BN膜进行了分析.结果表明: 合适的离子辅助能量能够获得c-BN含量高的薄膜; 膜中c-BN的含量随辅助气体中N2含量的提高而增加;辅助束流对薄膜的形成影响不明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谭俊	中国机械工程学会表面工程研究所	3	14	2.0	3.0
2	张平	中国机械工程学会表面工程研究所	8	109	5.0	8.0
3	蔡志海	装甲兵工程学院装备维修材料室	46	275	10.0	12.0
4	王晓晴	装甲兵工程学院装备维修材料室	1	1	1.0	1.0
5	唐云	装甲兵工程学院装备维修材料室	4	15	2.0	3.0