化学气相沉积钨单晶管材表面电解蚀刻形成的{110}晶面形貌

• 作者: 吴尉 杨启法 郑剑平
• 来源期刊: 物理测试
• 学科: 工学
• 关键词: 钨涂层 气相沉积 电解蚀刻 {110}晶面
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 4-6,16
• 页数: 4页
• 分类号: TQ151
• 字数: 1758字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0777.2003.05.002

摘要

报导了具有〈111〉晶向(轴向)的管状钼单晶基体化学气相沉积(CVD)钨单晶涂层的电解蚀刻工艺及形成的{110}晶面形貌.实验发现,通过电解蚀刻,表面的{110}晶面可以完全被蚀刻出来.蚀刻出来的{110}晶面呈台阶结构,并同〈111〉晶轴相平行.蚀刻出来的{110}晶面在圆管的表面分成均等六个区.每个区内{110}晶面的台阶面的宽度呈现周期性的变化,开始台阶面较宽,逐渐变窄,然后通过一过渡区后,进入下一周期,{110}晶面的台阶面的宽度又逐渐变宽.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑剑平		32	66	4.0	6.0
2	杨启法		20	68	4.0	7.0
3	吴尉		3	10	2.0	3.0