聚酰亚胺基纳米氟碳膜的结构和性能研究

• 作者: 张浴晖 齐宏进
• 来源期刊: 青岛大学学报(工程技术版)
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 纳米氟碳膜 表面形貌 表面结构 接触角
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 化学科技
• 页码范围: 63-66
• 页数: 4页
• 分类号: TQ323.7
• 字数: 1547字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-9798.2003.04.015

摘要

利用射频磁控溅射法,以聚四氟乙烯为靶材,在聚酰亚胺(PI)薄膜上沉积纳米氟碳膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、原子力显微镜(AFM)观察了纳米氟碳膜的表面形貌.通过优化放电条件,在PI薄膜上得到了一层致密均匀的由纳米粒子组成的氟碳膜.利用X射线光电子能谱(XPS)研究了膜的结构及其对放电条件的依赖性.结果表明:这种纳米氟碳膜由-CF3, -CF2-, -CF- 和 -C- 4个组分构成.水接触角的测量数据表明:在PI基底上沉积纳米氟碳膜可以提高其憎水性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张浴晖	青岛大学化工学院	11	39	4.0	6.0
2	齐宏进	青岛大学化工学院	13	162	6.0	12.0