He+注入诱生微孔对金吸除作用的研究

• 作者: 唐有青 李恒 游志朴
• 来源期刊: 四川大学学报(自然科学版)
• 学科: 物理学
• 关键词: 微孔 金 吸除 反向漏电流
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 86-89
• 页数: 4页
• 分类号: O571.33|O474
• 字数: 3048字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2003.01.021

摘要

高注量的氦注入硅中并经热处理所形成的微孔,对金属原子的吸除作用已为大量的研究所证实.作者报道了该技术应用于平面二极管中对金杂质吸除的研究.其结果表明,在粗糙研磨表面上形成的氦诱生微孔,同样具有良好的吸除效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李恒	四川大学物理系	19	124	7.0	10.0
2	游志朴	四川大学物理系	4	4	1.0	2.0
3	唐有青	四川大学物理系	2	1	1.0	1.0