氧等离子体对金刚石膜的刻蚀研究

• 作者: 吕宪义 彭鸿雁 曹庆忠 郝世强 金曾孙
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 化学
• 关键词: 氧等离子体 金刚石膜 刻蚀 结构特性
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 191-195
• 页数: 5页
• 分类号: O613.71
• 字数: 2054字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-8827.2003.03.005

摘要

用微波放电法产生氧等离子体,通过改变系统中氧的浓度和金刚石膜的温度研究了氧等离子体对CVD多晶金刚石膜刻蚀的影响.实验结果表明:随着氧浓度的增加和金刚石膜温度的提高,刻蚀作用加剧;而在较低的氧浓度和金刚石膜温度条件下金刚石膜的晶界处首先被刻蚀,说明金刚石膜的境界处含有较多的非金刚石碳相.并且从等离子体对(100)和(111)面的刻蚀现象可知(100)面的生长是二维生长,(111)面的生长是岛状生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕宪义	吉林大学超硬材料国家重点实验室	27	302	10.0	17.0
2	金曾孙	吉林大学超硬材料国家重点实验室	50	462	12.0	19.0
3	彭鸿雁	吉林大学超硬材料国家重点实验室	4	45	3.0	4.0
4	郝世强	吉林大学超硬材料国家重点实验室	2	36	2.0	2.0