CD-R生产中的染料光密度闭环控制

• 作者: MarkusPohlen ThomasLange 岳宏达
• 来源期刊: 记录媒体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光密度 CD-R 闭环控制 旋涂 自动控制系统 光学参量 工艺条件 盘片 低能耗 吸收峰
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 页码范围: 38-40
• 页数: 3页
• 分类号: TQ596

摘要

【正】 1.前言高产出,高成品率,低原材料消耗,低能耗,低人力消耗——这是每个光盘复制者追求的目标。今天,先进的闭环控制系统可以实现这一目标。对于不同格式的盘片,对于不同的工艺过程,需要不同的控制系统。我们将依次介绍这些系统。本文首先介绍Dye ODPROCON—CD-R染料旋涂工艺的在线自动控制系统。该系统已经在实际中投入使用。2.CD-R染料OD闭环控制理论2.1 染料膜厚测试光密度（OD=-logT）控制的目标是在盘片上旋涂出厚度均一的染料层。根据CDR-SIM软件对CD-R光学参量的仿真计算可知,应该在吸收峰处(λ_max)做光密度