CVD金刚石涂层附着性能研究

• 作者: 姚宁 张兵临 李会军 杨仕娥 王小平 边超 马丙现
• 来源期刊: 郑州大学学报(理学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石涂层 形核密度 附着性能
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 36-39,51
• 页数: 5页
• 分类号: TB43|TG135
• 字数: 1597字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-6841.2003.01.009

摘要

采用微波等离子体CVD(MPCVD)法在YG6硬质合金基体表面沉积金刚石涂层,在金刚石的形核和生长阶段分别采用不同的沉积条件,研究了分步沉积工艺对金刚石涂层形核、质量及其附着性能的影响.结果表明:采用分步优化的沉积工艺,可明显改善金刚石涂层与刀具基体之间的附着性能,这主要是由于基体表面形核密度的提高,增大了涂层与基体之间的实际接触面积.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学物理工程学院	122	692	12.0	18.0
2	张兵临	郑州大学物理工程学院	95	608	12.0	18.0
3	杨仕娥	郑州大学物理工程学院	68	513	12.0	18.0
4	马丙现	郑州大学物理工程学院	19	120	6.0	10.0
5	李会军	郑州大学物理工程学院	7	70	5.0	7.0
6	王小平	郑州大学物理工程学院	22	77	4.0	8.0
7	边超	郑州大学物理工程学院	7	135	5.0	7.0