Fe84Zr3.5Nb3.5B8Cu1薄带的动态磁化过程

• 作者: 侯碧辉 刘凤艳
• 来源期刊: 波谱学杂志
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子自旋共振 低场非共振ESR信号 磁化过程 畴壁移动 磁畴转动 微波特性
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 页码范围: 239-244
• 页数: 6页
• 分类号: O482.53
• 字数: 3060字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-4556.2003.03.005

摘要

由于铁磁性样品的交流磁化率虚部χ″随磁场强度H的变化是非线性的, 在低场(0～12 mT)有一个与铁磁共振信号强度相当的低场非共振信号. 利用ESR谱仪测量交流磁化率虚部χ″对磁场强度H的一次微分随磁场强度的变化(dχ″)/(dH)～H, 研究Fe84Zr3.5Nb3.5B8Cu1合金薄带的动态磁化特性. 合金薄带样品是各向异性的, 易磁化轴(易轴)在薄带的横向方向, 外加磁场H在易轴方向. 样品在可逆磁化区域(0～2.0 mT)和趋近饱和的磁化区域(9.0 mT以上), (dχ″)/(dH)=0; 在不可逆畴壁移动过程中, 当H为4.2 mT 时, χ″(H)达到最大值χmax; 在磁畴转动过程中, χ″(H)正比于H2(瑞利区); 而实验中却发现, 在某些区域交流磁化率虚部χ″(H) 与磁场强度H的n次方即Hn(n≥3)有关; 而且发现, 在一定区域, 有三段不可逆畴壁移动和磁畴转动交替出现的现象. 在这一过程中, (dχ″)/(dH)为常数的磁场范围分别为4.8～5.2 mT, 5.8～6.4 mT, 8.0～8.5 mT, 其常数相对值分别为1:0.85:0.60. 样品的交流磁化率虚部χ″对磁场H的微分(dχ″)/(dH)随磁场H的这一变化规律反映了不可逆畴壁移动和磁畴转动交替发生的微观过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯碧辉	北京工业大学应用数理学院	37	128	7.0	9.0
2	刘凤艳	北京工业大学应用数理学院	18	47	4.0	5.0