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摘要:
分析了微晶玻璃中残余应力的形成机理及表现特点,并对几种常用测定残余应力的方法进行了比较.提出了用X射线衍射法和中子衍射方法组合运用并结合其他非破坏性测量方法来测定微晶玻璃残余应力.
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文献信息
篇名 谈微晶玻璃残余应力的测量方法
来源期刊 玻璃 学科 工学
关键词 微晶玻璃 残余应力 X射线衍射 中子衍射
年,卷(期) 2003,(6) 所属期刊栏目 综论与探讨
研究方向 页码范围 21-23
页数 3页 分类号 TQ17
字数 2679字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-1987.2003.06.006
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 程金树 武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室 168 1213 19.0 25.0
2 谢俊 武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室 41 139 7.0 9.0
3 楼贤春 武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室 20 197 9.0 14.0
4 郑伟宏 武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室 32 188 9.0 12.0
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研究主题发展历程
节点文献
微晶玻璃
残余应力
X射线衍射
中子衍射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
玻璃
月刊
1003-1987
13-1106/TQ
大16开
河北省秦皇岛市河北大街西段91号
1974
chi
出版文献量(篇)
3465
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16
总被引数(次)
5520
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