化学气相沉积TiO2薄膜的XPS研究

• 作者: 冯庆 刘高斌 王万录
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: TiO2 化学气相沉积 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 35-37,45
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.2+1
• 字数: 2347字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-488X.2003.01.008

摘要

通过XPS分析了TiO2薄膜的结构.薄膜是通过化学气相沉积的方法生长,有机源遇热发生分解,沉积在硅衬底上形成TiO2薄膜.XPS分析表明:所得TiO2薄膜含有Ti、C、O、Al、Si元素.各元素的电子结合能与理论值并无太大的偏移,说明通过化学气相沉积法制备的TiO2薄膜,纯度高,质量好,晶型为锐钛矿.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王万录	重庆大学数理学院应用物理系	109	849	16.0	22.0
2	刘高斌	重庆大学数理学院应用物理系	37	310	12.0	15.0
3	冯庆	重庆大学数理学院应用物理系	16	184	9.0	13.0