双重加热法合成碳化硅晶须的研究

• 作者: 孟永强 宋祖伟 戴长虹 赵茹
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳化硅 晶须 双重加热
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 页码范围: 78-81
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 字数: 2987字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2003.01.017

摘要

本文给出了一种低成本、适用于大批量生产碳化硅晶须的新方法,以炭黑和SiO2微粉为原料对用双重加热法合成碳化硅晶须进行了研究.研究表明,利用双重加热技术可以在较低合成温度1300℃下、较短合成时间1.5h内得到平均直径为0.3μm、长度为10～40μm、生成率达81%的碳化硅晶须.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴长虹		10	88	6.0	9.0
2	孟永强		15	68	5.0	7.0
3	赵茹		6	42	4.0	6.0
4	宋祖伟		3	26	3.0	3.0