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可录光盘槽内和岸上的染料层厚度分布研究
可录光盘槽内和岸上的染料层厚度分布研究
作者:
Rolf Hertling
岳宏达
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
料层厚度
光密度
读写速度
旋涂
闭环控制
工艺过程
盘片
参数记录
激光聚焦
言在
摘要:
【正】 1 前言在“CD-R生产中的染料光密度闭环控制”中,介绍了CD-R旋涂工艺过程中,利用ETA-DYE-ODPROCON系统保持光密度稳定性。随着可录光盘从CD-R到DVD-R的发展和读写速度的升高,染料层在槽内和岸上的微观分布的研究将越来越重要。生产者需要控制岸上的染料层厚度,因为它反映了盘片的光密度,同时为确保橙皮书参数规范,必须要控制槽内的染料层分布,其中包括了槽内的染料层厚度。下面以DVD-R为例,介绍染料层厚度分布对光盘质量的影响。然后介绍DVD-R染料层厚度分布在线控制系统:ETA-CD-I/DVD-R的测试结果。2 染料层厚度分布对橙皮书
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文献信息
篇名
可录光盘槽内和岸上的染料层厚度分布研究
来源期刊
记录媒体技术
学科
工学
关键词
料层厚度
光密度
读写速度
旋涂
闭环控制
工艺过程
盘片
参数记录
激光聚焦
言在
年,卷(期)
2003,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
49-50
页数
2页
分类号
TQ596
字数
语种
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
岳宏达
清华大学光盘国家工程研究中心
9
18
2.0
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2
Rolf Hertling
4
0
0.0
0.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
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引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
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节点文献
引证文献
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同被引文献
(0)
二级引证文献
(0)
2003(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
料层厚度
光密度
读写速度
旋涂
闭环控制
工艺过程
盘片
参数记录
激光聚焦
言在
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
记录媒体技术
主办单位:
清华大学光盘国家工程研究中心
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-1268
CN:
11-4992/TP
开本:
大16开
出版地:
北京清华大学华业大厦1409
邮发代号:
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
1075
总下载数(次)
3
总被引数(次)
606
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