电子碰撞引起的Hf和W元素的L-X射线产生截面比研究

• 作者: 何福庆 彭秀峰 罗小兵 龙先灌
• 来源期刊: 成都大学学报（自然科学版）
• 关键词: 电子碰撞 截面比 L-壳层电离 铪 钨
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 页码范围: 33-36
• 页数: 4页
• 分类号: O5.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-5422.2003.02.008

摘要

本工作测量了元素Hf和W的L-X射线产生截面比Lβ/Lα在从阈能到32 keV能区内同能量的函数关系.实验结果表明,比值Lβ/Lα在阈能附近和入射能量有关,该特性完全不同于在较高能量处现有的L壳层数据及所有的K壳层数据,与他人发表的结果和两种理论预言也作了比较.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗小兵	辐射物理及技术教育部重点实验室四川大学原子核科学技术研究所	6	82	3.0	6.0
2	何福庆	辐射物理及技术教育部重点实验室四川大学原子核科学技术研究所	6	21	3.0	4.0
3	彭秀峰	辐射物理及技术教育部重点实验室四川大学原子核科学技术研究所	5	16	2.0	4.0
4	龙先灌	辐射物理及技术教育部重点实验室四川大学原子核科学技术研究所	1	0	0.0	0.0