束流聚焦影响因素的束矩阵法计算分析

• 作者: 代志勇 李平 李献文 王文斗 章林文 谢宇彤
• 来源期刊: 信息与电子工程
• 学科: 工学
• 关键词: 高能物理学 束流聚焦 束矩阵法 聚焦焦斑
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 284-287
• 页数: 4页
• 分类号: TL501+.2
• 字数: 3038字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-2892.2003.04.009

摘要

利用束矩阵的数值计算方法,研究了束流在聚焦系统中的传输行为和系统磁场位形的关系,重点探讨了入射束流不同初始参数对打靶聚焦的影响.计算结果表明,对于不同初始参数(尤其是在相空间的不同初始状态)的束流,要分别聚焦在靶上需要选择不同的磁场位形;主磁透镜的场强及其位置是调试束流聚焦的关键因素.同时还计算给出了几种能使束流聚焦焦斑半径在1.5mm以下的磁场位形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李平	中国工程物理研究院流体物理研究所	114	441	11.0	17.0
2	章林文	中国工程物理研究院流体物理研究所	72	415	12.0	16.0
3	王文斗	中国工程物理研究院流体物理研究所	26	117	6.0	9.0
4	代志勇	中国工程物理研究院流体物理研究所	35	101	5.0	9.0
5	谢宇彤	中国工程物理研究院流体物理研究所	18	58	5.0	7.0
6	李献文	中国工程物理研究院流体物理研究所	6	11	3.0	3.0