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摘要:
CRT荫罩制造工艺的基础技术是光刻腐蚀.将应用于制造荫罩的精密光刻精细腐蚀技术引伸应用到平板显示、微电子、微机械等领域,可以制作出高精度OLED金属掩膜版,LCD、PDP光学掩膜版等,使这一非常成熟的工艺焕发出新的活力.
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缓冲垫
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荫罩
NC加工
反求
Pro/E
Mastercam
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 CRT荫罩制造技术及其在平板显示等领域的应用
来源期刊 液晶与显示 学科 工学
关键词 平板显示 荫罩 光刻 精细腐蚀 掩膜版
年,卷(期) 2003,(3) 所属期刊栏目 研究报告
研究方向 页码范围 219-221
页数 3页 分类号 TN27
字数 2950字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-2780.2003.03.014
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研究主题发展历程
节点文献
平板显示
荫罩
光刻
精细腐蚀
掩膜版
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
液晶与显示
月刊
1007-2780
22-1259/O4
大16开
长春市东南湖大路3888号
12-203
1986
chi
出版文献量(篇)
3141
总下载数(次)
7
总被引数(次)
21631
论文1v1指导