磁控溅射镀膜设备中靶的优化设计

• 作者: 刘翔宇 查良镇 范垂祯 许生 赵来
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 优化靶设计 电磁场 等离子体数值模拟
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 热点追踪
• 页码范围: 16-22
• 页数: 7页
• 分类号: TB43
• 字数: 4009字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2003.04.003

摘要

磁控溅射已发展为工业镀膜生产中最主要的技术之一.对在镀膜批量生产中普遍存在的靶材利用率、溅射速率和沉积速率低以及溅射过程不稳定等突出问题,固然可用优化电源设计和调整工艺参数等加以改善,但根本的问题在于整个系统,特别是靶的优化设计.本文简要评述了已有靶的典型设计及其特点;对靶分析和设计的通行方法,包括电磁场有限元、等离子体粒子模型及流体模型、以及设计过程中其它一些需要注意的问题作了讨论.鉴于国内目前在靶的分析设计方面与国际先进水平之间还存在着比较大的差距,希望能够引起有关方面的重视.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许生		10	149	5.0	10.0
2	范垂祯		10	149	5.0	10.0
3	赵来	清华大学电子工程系	4	127	4.0	4.0
4	查良镇	清华大学电子工程系	25	295	10.0	17.0
5	刘翔宇	清华大学电子工程系	4	98	3.0	4.0