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摘要:
SiC是第3代宽带隙半导体的核心材料之一,具有极为优良的物理化学性能,应用前景十分广阔.本文着重介绍SiC陶瓷材料的分子动力学模拟的势能模型及主要技术细节.
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文献信息
篇名 SiC陶瓷材料分子动力学模拟概述
来源期刊 山东陶瓷 学科 工学
关键词 分子动力学模拟 SiC Tersoff势
年,卷(期) 2003,(6) 所属期刊栏目 综述
研究方向 页码范围 11-13
页数 3页 分类号 TQ174.75+8.12
字数 1992字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-0639.2003.06.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 朱定一 福州大学材料科学与工程学院 79 831 15.0 27.0
2 汤伟 福州大学材料科学与工程学院 9 139 7.0 9.0
3 Lee Seung-Hyeob 1 9 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
分子动力学模拟
SiC
Tersoff势
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
山东陶瓷
双月刊
1005-0639
37-1221/TQ
大16开
淄博市高新技术产业开发区柳泉路286号
24-105
1978
chi
出版文献量(篇)
2531
总下载数(次)
9
总被引数(次)
4355
论文1v1指导