蓝宝石R面上ZnO薄膜的NH3掺杂研究

• 作者: 刘大力 吴爱国 张源涛 李万程 李壮 杜国同 杨晓天 杨树人 杨洪军 王金忠 赵佰军 马艳
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 蓝宝石 氧化锌薄膜 金属有机化学气相沉积 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 335-338
• 页数: 4页
• 分类号: O472.3
• 字数: 1774字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2003.04.002

摘要

以NH3为掺杂源,利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统在蓝宝石R面上生长出掺氮ZnO薄膜.通过XRD,SEM测量优化了其生长参数,在610℃和在80sccm的NH3流量下生长出了〈11 20〉单一取向的ZnO薄膜.经Hall电阻率测量,得知该薄膜呈现弱p型或高电阻率,并对其光电子能谱进行了研究.