热处理对MIM薄膜二极管中Ta2O5 膜表面形貌的影响

• 作者: 张浩康 许晓伟 钟锐
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 热处理 金属-绝缘体-金属薄膜二极管 反应溅射 电子束蒸发 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 194-198
• 页数: 5页
• 分类号: TN311+.5
• 字数: 2519字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-488X.2003.03.012

摘要

采用了一种较为新颖的真空热处理和大气气氛下热处理相结合的热处理工艺,并应用到两种以反应溅射工艺为基础制备出的多层Ta2O5膜样品的后处理上.AFM结果显示,经过真空和大气热处理之后,两种Ta2O5膜样品的表面平整度均得到了较大改善,反映出膜内部结构的致密性也得到了较大提高,这将一定程度改善以该膜为绝缘层的MIM-TFD的漏电流和耐击穿电压等电性能.此外,其中的大气热处理工艺所需要的设备和操作程序非常简单,成本较低,这也为MIM-TFD的后期处理工艺提供了一条新的途径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟锐	东南大学电子工程系	54	211	8.0	12.0
2	张浩康	东南大学电子工程系	11	24	4.0	4.0
3	许晓伟	东南大学电子工程系	5	13	2.0	3.0