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摘要:
研究了新型钡钨阴极发射性能,并且分别用扫描电子显微镜(SEM)和工业CT微焦点系统来分析所研制的新型钡钨阴极的表面形貌和内部微细结构.该阴极不仅简化了传统浸渍钡钨阴极生产工艺,而且发射性能要优于传统工艺阴极.
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文献信息
篇名 大电流阴极的发射性能研究
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 钡钨阴极 工业CT 扫描电镜 图像分析
年,卷(期) 2003,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 248-252
页数 5页 分类号 TN14
字数 2520字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2003.03.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张红卫 13 67 4.0 8.0
5 丁耀根 中国科学院电子所 112 1050 18.0 26.0
6 白振纲 中国科学院电子所 7 30 3.0 5.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
钡钨阴极
工业CT
扫描电镜
图像分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
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21
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27643
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