CMP平坦化技术在LCoS显示器中的应用

• 作者: 代永平 孙钟林 王隆望 耿卫东
• 来源期刊: 光电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 硅基液晶屏 平整度 化学机械抛光
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 41-45
• 页数: 5页
• 分类号: TN873+.93
• 字数: 2701字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-488X.2003.01.010

摘要

作为一类新型LCD技术的LCoS显示屏是一种反射式液晶显示器,其镜面反射电极的平整性决定了整个显示器的亮度和对比度等主要显示参数.本文详细讨论了CMP技术在LCoS液晶显示器中实现平坦化的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	代永平	南开大学信息学院	74	390	12.0	16.0
2	孙钟林	南开大学信息学院	45	304	11.0	15.0
3	王隆望		8	63	5.0	7.0
4	耿卫东	南开大学信息学院	56	345	11.0	16.0