单晶硅基表面碳纳米管薄膜的制备研究

• 作者: 刘华平 刘长虹 彭宜斌 程国安 郑瑞廷
• 来源期刊: 热处理技术与装备
• 关键词: 碳纳米管 催化裂解法 单晶硅
• 年，卷（期）: 2003,（2）
• 所属期刊栏目: 其它
• 页码范围: 44-47
• 页数: 4页
• 分类号: TB3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-4971.2003.02.015

摘要

以乙炔气为反应气体,采用催化裂解方法,在沉积有铁催化剂膜的单晶硅基体上研究碳纳米管薄膜的制备.研究表明,由于催化剂的作用,在硅基体上能够形成直径为50～100nm的碳纳米管;铁催化剂膜的粒径大小和分散状态对碳钠米管薄膜的厚度、管径和均匀性起着关键作用;氢氟酸水溶液处理的催化剂膜有利于铁催化剂颗粒的分散和均匀化,能形成比较好的碳纳米管薄膜.由电镜分析发现,在单晶硅基体上生长的碳纳米管为顶端生长模式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭宜斌	北京师范大学材料科学与工程系	1	0	0.0	0.0
2	程国安	北京师范大学材料科学与工程系	28	204	9.0	13.0
3	刘华平	南昌大学材料科学工程系	2	2	1.0	1.0
4	郑瑞廷	北京师范大学材料科学与工程系	15	119	6.0	10.0
5	刘长虹	南昌大学材料科学工程系	2	9	1.0	2.0