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EDTA滴定钙镁离子时铁(Ⅲ)离子的干扰及其排除
EDTA滴定钙镁离子时铁(Ⅲ)离子的干扰及其排除
作者:
王也如
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
配位滴定
铁离子干扰
钙离子测定
镁离子测定
摘要:
铁(Ⅲ)离子对滴定钙、镁离子的干扰原因是其对指示剂的配位封闭作用.延缓指示剂的加入或滤去氢氧化铁沉淀均可排除干扰.
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文献信息
篇名
EDTA滴定钙镁离子时铁(Ⅲ)离子的干扰及其排除
来源期刊
上海应用技术学院学报(自然科学版)
学科
工学
关键词
配位滴定
铁离子干扰
钙离子测定
镁离子测定
年,卷(期)
2003,(4)
所属期刊栏目
理论研究
研究方向
页码范围
231-233
页数
3页
分类号
TQ138.1
字数
1523字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-7333.2003.04.002
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王也如
上海应用技术学院化学工程系
1
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引文网络
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配位滴定
铁离子干扰
钙离子测定
镁离子测定
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
应用技术学报
主办单位:
上海应用技术学院
上海科学院
上海化工研究院
出版周期:
季刊
ISSN:
2096-3424
CN:
31-2133/N
开本:
大16开
出版地:
上海是徐汇区漕宝路120号期刊社
邮发代号:
创刊时间:
2001
语种:
chi
出版文献量(篇)
1505
总下载数(次)
5
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