耐熔微掩膜法制备高温超导Josephson结

• 作者: 刘庆国 吉争鸣 吴培亨 杨森祖 范世雄 许伟伟
• 来源期刊: 低温物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Josephson结 耐熔微掩模 双晶结
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 页码范围: 188-192
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 2280字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3258.2003.03.006

摘要

在超导Josephson结的制备过程中,传统的成结方式为对超导薄膜进行化学刻蚀或离子刻蚀,以形成特定图形的结.而刻蚀这一步常常会给结的性能带来负面影响,从而直接导致超导器件性能的下降.本文介绍了一种利用耐融微掩模制备高温超导Josephson结的方法.本方法的特点是:一次成结无需后期刻蚀,利用此方法可以避免刻蚀工艺对超导器件性能的影响,制备高质量的高温超导Josephson结. 本文给出利用此方法制备高温超导YBCO/YSZ双晶结的有关工艺,以及初步的实验结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨森祖	南京大学电子科学与工程系	17	31	4.0	5.0
2	许伟伟	南京大学电子科学与工程系	69	148	6.0	9.0
3	吴培亨	南京大学电子科学与工程系	93	237	8.0	12.0
4	吉争鸣	南京大学电子科学与工程系	36	111	6.0	9.0
5	范世雄	南京大学电子科学与工程系	8	21	3.0	4.0
6	刘庆国	南京大学电子科学与工程系	4	17	2.0	4.0