用中频溅射沉积的大面积SiO2膜层损伤机制的探讨

• 作者: 王雅婷 贾庆云 龚建华
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 中频溅射 SiO2膜
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 热点追踪
• 页码范围: 29-31
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2800字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2003.04.006

摘要

大面积SiO2厚膜沉积可创造很高的附加值,但在规模生产中会出现严重的膜层损伤.本文针对这一现象进行机理探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龚建华		9	59	5.0	7.0
2	王雅婷		2	15	2.0	2.0