三元型钾-四氢呋喃-GIC的制备及稳定性研究

• 作者: 刘静静 李赟 肖敏 龚克成
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 工学
• 关键词: 石墨插层化合物 钾 四氢呋喃 稳定性
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 53-59
• 页数: 7页
• 分类号: TQ165
• 字数: 2436字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-8827.2003.01.010

摘要

采用正交试验设计方法优化反应条件制备了纯1阶结构的钾-四氢呋喃-石墨插层化合物(K-THF-GIC),研究了1阶K-THF-GIC在空气中放置、溶剂洗涤以及加热处理时的稳定性,并对K、THF嵌入石墨层间以及从石墨层间脱嵌的过程进行了探讨.结果表明:制备K-THF-GIC时,插层剂浓度和插层反应时间对产物结构的影响很大,较大的插层剂浓度,较长的反应时间有利于石墨反应完全;1阶K-THF-GIC的稳定性较差,K、THF容易从层间脱嵌,使得阶结构由1阶向高阶变化,高阶K-THF-GIC的稳定性相对1阶K-THF-GIC来说要好一些,即形成高阶K-THF-GIC后,K、THF从层间脱嵌的速率要慢些.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龚克成	华南理工大学材料学院	81	1702	21.0	39.0
2	肖敏	中山大学理工学院	36	243	10.0	14.0
3	刘静静	华南理工大学材料学院	3	17	2.0	3.0
4	李赟	华南理工大学材料学院	7	36	2.0	6.0