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摘要:
随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为将来的集成电路的基础.本文介绍了几种用电子束光刻、反应离子刻蚀方法制备硅量子线、量子点和用电子束光刻、电子束蒸发以及剥离技术制备纳米金属栅的工艺方法;用这种工艺方法在P型SIMOX硅片上成功制造的一种单电子晶体管,在其电流电压-特性上观测到明显的库仑阻塞效应和单电子隧穿效应.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 纳米结构制备技术
来源期刊 电子学报 学科 工学
关键词 纳米结构 单电子晶体管 库仑阻塞 单电子隧穿
年,卷(期) 2003,(2) 所属期刊栏目 科研通信
研究方向 页码范围 301-302
页数 2页 分类号 TN32
字数 732字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0372-2112.2003.02.039
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈治明 西安理工大学电子工程系 83 498 11.0 18.0
2 葛惟昆 香港科技大学物理系 14 37 4.0 5.0
3 王建农 香港科技大学物理系 13 55 4.0 7.0
4 卢刚 西安理工大学电子工程系 16 38 3.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
纳米结构
单电子晶体管
库仑阻塞
单电子隧穿
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子学报
月刊
0372-2112
11-2087/TN
大16开
北京165信箱
2-891
1962
chi
出版文献量(篇)
11181
总下载数(次)
11
总被引数(次)
206555
相关基金
香港研究资助局资助项目
英文译名:
官方网址:http://www.ugc.edu.hk/eng/rgc/about/method/operation.htm
项目类型:
学科类型:
论文1v1指导