连续面形微光学元件的深刻蚀工艺

• 作者: 唐雄贵 杜春雷 潘丽 董小春 邱传凯
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 微光学元件 深刻蚀 等离子刻蚀 连续面形
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 微光学
• 页码范围: 13-16
• 页数: 4页
• 分类号: TN256
• 字数: 4186字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2003.03.004

摘要

利用电感耦合等离子(ICP)刻蚀技术,在石英上刻蚀深连续面形微光学元件.分析了影响深刻蚀工艺的烘焙条件、气体组分、自偏压和刻蚀温度等主要工艺参数,并对影响深刻蚀稳定性、均匀性、刻蚀污染与损伤等因素进行了探讨.通过实验,在石英上制作出深达55微米的浮雕微柱透镜,其面形峰值误差小于3%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜春雷	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	72	596	14.0	18.0
2	邱传凯	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	23	186	9.0	12.0
3	董小春	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	20	154	8.0	11.0
4	潘丽	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	10	66	5.0	7.0
5	唐雄贵	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	1	9	1.0	1.0