热丝化学气相沉积技术低温制备多晶硅薄膜的结构与光电特性

• 作者: 刘丰珍 刘金龙 朱美芳 汪六九 韩一琴
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多晶硅薄膜 热丝化学气相沉积 光电特性
• 年，卷（期）: 2003,（11）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 2934-2938
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3165字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2003.11.050

摘要

以金属W和Ta为热丝,采用热丝化学气相沉积 ,在250℃玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜.研究了热丝温度、沉积气压、热丝与衬底间距等沉积参数对硅薄膜结构和光电特性的影响,在优化条件下获得晶态比Xc＞90%,暗电导率σd=10-7-10-6Ω-1cm-1,激活能Ea=0.5eV,光能隙Eopt≤1.3eV的多晶硅薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘金龙	中国科学院研究生院物理系	31	895	11.0	29.0
2	刘丰珍	中国科学院研究生院物理系	17	105	4.0	10.0
3	朱美芳	中国科学院研究生院物理系	11	98	4.0	9.0
4	汪六九	中国科学院研究生院物理系	3	61	2.0	3.0
8	韩一琴	中国科学院研究生院物理系	6	67	3.0	6.0