用于半导体工业的高纯度制氮设备

• 作者: 章炎生
• 来源期刊: 深冷技术
• 学科: 工学
• 关键词: 空气分离设备 高纯氮设备 特征 杂质清除 深度精制
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 安装运转
• 页码范围: 26-29
• 页数: 4页
• 分类号: TQ116.15
• 字数: 2872字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.978-7-807.2003.04.005

摘要

介绍深冷法高纯度制氮设备的流程、主要特征、杂质清除、设计要求,并简介了深度精制,可使氮中杂质含量小于0.01×10-9.