常温低浓度镀铬工艺研究

• 作者: 付军生 吴开源 谭明辉
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 镀铬 常温 低铬酐浓度
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 研究·工艺
• 页码范围: 20-22,61
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.11
• 字数: 2836字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2003.06.005

摘要

提出了一种常温低浓度镀铬工艺.对该工艺所用镀液的深度能力、分散能力、阴极电流效率及其镀层的结合强度和耐腐蚀性能进行了测定.与传统的镀铬工艺相比,该工艺降低了生产成本,提高了生产效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付军生		3	7	1.0	2.0
2	谭明辉		3	16	2.0	3.0
3	吴开源		2	7	1.0	2.0