磁控溅射CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系

• 作者: 卞海蛟 吕宪义 孙龙 李俊杰 王欣 郑伟涛 金曾孙
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: CNx薄膜 粗糙度 附着力 衬底偏压
• 年，卷（期）: 2003,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 305-308
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5
• 字数: 2184字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2003.03.019

摘要

对磁控溅射生长在单晶Si(001)衬底上的CNx薄膜的附着力、粗糙度与衬底偏压的关系进行了研究.CNx薄膜沉积实验在纯N2的环境下进行,衬底温度(Ts)保持在350℃,衬底偏压(Vb)在0～-150V之间变化.利用原子力显微镜(AFM)和划痕试验机来测量CNx薄膜的表面粗糙度及对衬底的附着力.AFM和划痕实验的结果显示衬底偏压Vb对CNx薄膜的附着力和表面粗糙程度的影响很大,在-100V偏压下生长的CNx薄膜表面最光滑(粗糙度最小),同时对Si(001)衬底的附着力最好.最后根据实验结果确定了在单晶Si(001)衬底上生长光滑而且附着力好的CNx薄膜的最佳实验条件.