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16×16纳米陶瓷/聚合物复合敏感膜热释电面阵研制
16×16纳米陶瓷/聚合物复合敏感膜热释电面阵研制
作者:
李金华
袁宁一
陈王丽华
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
红外成像
热释电阵列
复合敏感膜
摘要:
用三维集成CMOS 工艺研制了16×16 有机/无机复合敏感膜红外热释电面阵.用掺钙和镧的钛酸铅(PCLT)纳米粉粒与聚偏氟乙烯-三氟乙烯[P(VDF-TrFE)]均匀复合,作面阵的敏感膜.用PMOS场效应管作热释电元件的阻抗转换,用双16位移位寄存器作敏感元件信号读出的选址.用6 μm厚的聚烯亚胺薄膜作为热释电面阵与CMOS读出电路间的热隔离.用40 nm厚的Ni-Cr膜作面阵的上电极及吸收层.测得该面阵单元在600 Hz下探测率峰值为2.6×107cmHz1/2/W.
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文献信息
篇名
16×16纳米陶瓷/聚合物复合敏感膜热释电面阵研制
来源期刊
红外技术
学科
工学
关键词
红外成像
热释电阵列
复合敏感膜
年,卷(期)
2003,(3)
所属期刊栏目
材料与器件
研究方向
页码范围
45-48
页数
4页
分类号
TN219|TM221
字数
2419字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-8891.2003.03.012
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈王丽华
香港理工大学应用物理系及材料研究中心
27
186
7.0
13.0
2
李金华
江苏工业学院信息科学系功能材料实验室
33
277
9.0
15.0
3
袁宁一
江苏工业学院信息科学系功能材料实验室
26
154
8.0
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参考文献(0)
二级参考文献(1)
1995(1)
参考文献(0)
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参考文献(1)
二级参考文献(4)
1999(3)
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二级参考文献(1)
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参考文献(2)
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引证文献(1)
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引证文献(1)
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2009(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
红外成像
热释电阵列
复合敏感膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外技术
主办单位:
昆明物理研究所
中国兵工学会夜视技术专业委员会
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-8891
CN:
53-1053/TN
开本:
大16开
出版地:
昆明市教场东路31号《红外技术》编辑部
邮发代号:
64-26
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
3361
总下载数(次)
13
总被引数(次)
30858
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