STO/YBCO薄膜的制备及介电性能研究

• 作者: 何世明 刘兴钊 张鹰 李德红 李言荣 申妍华 陆清芳 陈家俊
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: STO 铁电薄膜 脉冲激光沉积 界面势垒
• 年，卷（期）: 2003,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 660-661,664
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 1520字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2003.06.019

摘要

采用脉冲激光沉积技术,在(100)LaAlO3单晶基片上生长SrTiO3/Y1Ba2Cu3O7-x(STO/YBCO)多层薄膜.XRD分析表明:YBCO薄膜和STO薄膜均为C轴取向,STO(002)/YBCO(006)衍射峰摇摆曲线半高宽为0.73°.AFM分析表明,STO/YBCO多层薄膜表面平整、均匀,在77K,100kHz的测试条件下,STO薄膜介电损耗tgδ＜10-2,在53.6kV/cm电场作用下,介电常数的相对变化为38%.